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光譜橢偏儀是一種高精度的光學(xué)測(cè)量?jī)x器，主要用于分析材料的光學(xué)性質(zhì)(如折射率、消光系數(shù))、薄膜厚度(從納米到微米級(jí))以及表面/界面的微觀結(jié)構(gòu)信息。其核心原理是利用光的偏振狀態(tài)在材料表面反射或透射后的變化，通過(guò)解析這種變化反推材料的物理特性，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)薄膜、納米材料、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。該設(shè)備在操作時(shí)可以不接觸、無(wú)損測(cè)量，不破壞樣品；厚度測(cè)量可達(dá)亞納米級(jí)；無(wú)需標(biāo)記或預(yù)處理，適用于多種材料。選購(gòu)光譜橢偏儀時(shí)可以關(guān)注以下幾點(diǎn)：1、光譜范圍：根據(jù)測(cè)量材料的光學(xué)特性選擇合適的光譜...

膜厚測(cè)試儀主要用于測(cè)量薄膜或涂層材料的厚度。根據(jù)工作原理的不同，可以分為幾種類(lèi)型，常見(jiàn)的有電渦流法、磁性法、X射線熒光法等。這些測(cè)試方法依賴(lài)于不同的物理原理來(lái)進(jìn)行膜層厚度的測(cè)量。電渦流法通常用于非鐵金屬表面，而磁性法則專(zhuān)門(mén)應(yīng)用于鐵磁性材料的膜層測(cè)量。無(wú)論是哪種類(lèi)型的膜厚測(cè)試儀，都需要一些關(guān)鍵的耗材和附件來(lái)保證測(cè)量的精度和儀器的長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。下面將詳細(xì)介紹常見(jiàn)的耗材和附件。主要耗材：1.探頭與傳感器探頭和傳感器是直接與待測(cè)物體表面接觸的核心部件。探頭根據(jù)不同的測(cè)量方式，通常分為...

教學(xué)橢偏儀作為一種重要的光學(xué)測(cè)量工具，廣泛應(yīng)用于研究、材料分析以及工業(yè)測(cè)試領(lǐng)域。在教學(xué)中，不僅能幫助學(xué)生直觀理解光學(xué)原理，還能加深學(xué)生對(duì)光學(xué)薄膜、表面特性等物理現(xiàn)象的認(rèn)識(shí)。針對(duì)教學(xué)需求設(shè)計(jì)的橢偏儀，通常具備一定的特殊設(shè)計(jì)特點(diǎn)，旨在簡(jiǎn)化操作、提高實(shí)用性和適應(yīng)性，幫助學(xué)生掌握科學(xué)實(shí)驗(yàn)方法與數(shù)據(jù)分析技能。教學(xué)橢偏儀的設(shè)計(jì)不同于研究型和工業(yè)型橢偏儀，通常更注重易用性和教育功能。其設(shè)計(jì)理念主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：1.簡(jiǎn)單易操作需要盡量簡(jiǎn)化操作流程，減少過(guò)多復(fù)雜的設(shè)置，使學(xué)生能夠在較短的...

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的快速發(fā)展，集成電路（IC）的制造工藝變得越來(lái)越精密，尤其是在薄膜沉積和刻蝕等工藝中，厚度控制顯得尤為重要。紅外干涉測(cè)厚儀作為一種高精度的非接觸式測(cè)量工具，在半導(dǎo)體制造過(guò)程中得到了廣泛應(yīng)用。其原理基于紅外干涉現(xiàn)象，通過(guò)反射光波與薄膜表面之間的相位差來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度的測(cè)量。以下將分析紅外干涉測(cè)厚儀在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用及優(yōu)勢(shì)。1、高精度厚度測(cè)量在半導(dǎo)體制造中，薄膜的厚度對(duì)器件的性能具有直接影響。例如，在光刻、化學(xué)氣相沉積（CVD）、原子層沉積（ALD）等過(guò)程中，薄膜...

頤光科技為您精選了多款光譜橢偏儀、反射膜厚儀自研產(chǎn)品。光譜橢偏儀ME-L穆勒矩陣橢偏儀ME-L是一款全自動(dòng)高精度穆勒矩陣光譜橢偏儀，擁有行業(yè)前沿的光路調(diào)制技術(shù)，采用半導(dǎo)體制冷式探測(cè)器，具有超高靈敏度和極快的信號(hào)采集速度，同時(shí)也包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。ME-Mapping光譜橢偏儀ME-Mapping光譜橢偏儀可以滿(mǎn)足大尺寸晶圓的多點(diǎn)自動(dòng)化掃描測(cè)量需求，自定義繪制測(cè)量路徑，支持實(shí)時(shí)顯示膜厚分布以及數(shù)據(jù)匯總。設(shè)備采用雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制技術(shù)，直接測(cè)...